纳米二氧化硅抛光粉

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我公司二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料，经纳米工艺生产的一种颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，用于多种材料纳米级的平坦化抛光，

抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光

抛光特点：抛光效率高、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。

技术指标： 

包装：10公斤/袋。

储藏：常温密闭储藏。